作為制作光伏電池和集成電路的基礎(chǔ)，硅片能用干冰清洗機(jī)進(jìn)行清洗嗎？電子行業(yè)清洗的效果直接影響到光伏電池和集成電路最終的性能、效率和穩(wěn)定性。由于硅材料的清潔度不夠，出現(xiàn)問題甚至失效的比例達(dá)到50%，因此有必要對(duì)硅片的清洗工藝進(jìn)行優(yōu)化。
ICS干冰清洗機(jī)|高效 環(huán)保 應(yīng)用廣泛
硅片可以用干冰清洗嗎？
當(dāng)溫度超過31.1℃，壓力達(dá)到7.38mpa時(shí)，CO2處于超臨界狀態(tài)，可以實(shí)現(xiàn)氣固轉(zhuǎn)換。二氧化碳通過噴嘴突然從氣缸中噴出，壓力下降，體積迅速膨脹，二氧化碳的恒定焓發(fā)生變化。二氧化碳的氣液混合物產(chǎn)生固體干冰顆粒，從而實(shí)現(xiàn)硅片的清洗。干冰顆粒去除顆粒物和有機(jī)物雜質(zhì)的機(jī)理不同。
在去除顆粒雜質(zhì)時(shí)，干冰顆粒與顆粒雜質(zhì)彈性碰撞，產(chǎn)生動(dòng)量傳遞，顆粒雜質(zhì)被高速氣流粉碎帶走。當(dāng)有機(jī)雜質(zhì)被去除時(shí)，干冰顆粒與有機(jī)物發(fā)生非彈性碰撞，干冰顆粒液化并包裹有機(jī)物離開硅片表面，然后凝固并被高速氣流帶走。提出了一種新的干冰顆粒噴霧清洗技術(shù)，采用5N純度、8Mpa CO2氣源壓力、11mpa噴嘴壓力等清洗參數(shù)，最終獲得了良好的清洗效果。
干冰清洗機(jī)干冰顆粒清洗技術(shù)是一種理想的清洗技術(shù)，對(duì)硅片表面無損傷，不會(huì)污染環(huán)境。
