小型顆粒式干冰清洗機可以用于清潔精密工業(yè)設(shè)備嗎？在工業(yè)設(shè)備清洗中，大型設(shè)備的清洗比較簡單，一般只需要增加清洗設(shè)備的壓力即可。清潔諸如硅片之類的精密工業(yè)設(shè)備時，過大的壓力會導(dǎo)致?lián)p壞。小型干冰清洗機采用無污染，無磨蝕的純物理清洗，可以清洗硅片和其他精密工業(yè)設(shè)備。
作為制造光伏電池和集成電路的基礎(chǔ)，清洗硅片非常重要。清潔效果直接影響光伏電池和集成電路的最終性能，效率和穩(wěn)定性。
清潔硅晶片不僅需要從硅晶片的表面去除雜質(zhì)，而且還需要鈍化硅晶片的表面以降低硅晶片表面的吸附能力。從理論上講，高質(zhì)量硅晶片的表面上沒有顆粒，金屬離子，水蒸氣和氧化物層。另外，要求硅晶片的表面具有平坦度，并且硅晶片的邊緣處的懸空鍵通過氫鍵終止。目前，由于硅晶片清潔技術(shù)的缺點，大規(guī)模集成電路（LSI）已被廣泛用于許多領(lǐng)域。
由于清潔硅材料還不夠，問題比例達到50，這就是為什么有必要優(yōu)化硅晶片的清潔工藝的原因。
硅晶片可以用干冰清洗嗎？
當(dāng)溫度超過31.1且壓力達到7.38 MPa時，CO2處于超臨界狀態(tài)，可以進行從氣體到固體的轉(zhuǎn)化。二氧化碳突然通過噴嘴從鋼瓶中排出，壓力下降，體積迅速膨脹。氣液二氧化碳混合物產(chǎn)生干冰的固體顆粒，從而進行硅晶片的清潔。干冰顆粒具有不同的去除顆粒和有機雜質(zhì)的機制。
使用小型顆粒式干冰清洗機技術(shù)清潔硅晶片非常有效，不會損壞硅晶片的表面，也不會污染環(huán)境。是一種理想的清潔技術(shù)。
